Kontrol suhu dan kelembaban otomatis

Suhu dan kelembaban ruangan bersih terutama ditentukan berdasarkan persyaratan proses, namun jika persyaratan proses terpenuhi, kenyamanan manusia harus dipertimbangkan.Dengan meningkatnya persyaratan kebersihan udara, ada kecenderungan bahwa proses tersebut memiliki persyaratan suhu dan kelembapan yang semakin ketat.

Karena akurasi pemesinan semakin halus, persyaratan untuk rentang fluktuasi suhu semakin kecil.Misalnya, dalam proses paparan litografi produksi sirkuit terpadu skala besar, perbedaan antara koefisien muai panas kaca dan wafer silikon sebagai bahan diafragma harus semakin kecil.Wafer silikon dengan diameter 100μm akan menyebabkan pemuaian linier sebesar 0,24μm ketika suhu naik 1 derajat.Oleh karena itu, suhunya harus konstan ±0,1 derajat.Pada saat yang sama, nilai kelembapan umumnya harus rendah, karena setelah seseorang berkeringat, produk akan tercemar, terutama Untuk bengkel semikonduktor yang takut natrium, bengkel bersih semacam ini tidak boleh melebihi 25 derajat.

Kelembapan yang berlebihan menyebabkan lebih banyak masalah.Bila kelembaban relatif melebihi 55%, akan terjadi pengembunan pada dinding pipa air pendingin.Jika terjadi pada perangkat atau sirkuit presisi maka akan menimbulkan berbagai kecelakaan.Mudah berkarat ketika kelembaban relatif 50%.Selain itu, bila kelembapan terlalu tinggi, debu pada permukaan wafer silikon akan terserap secara kimia oleh molekul air di udara ke permukaan, sehingga sulit dihilangkan.Semakin tinggi kelembaban relatif, semakin sulit untuk menghilangkan adhesi, tetapi ketika kelembaban relatif lebih rendah dari 30%, partikel juga mudah teradsorpsi di permukaan karena aksi gaya elektrostatik, dan sejumlah besar semikonduktor perangkat rentan terhadap kerusakan.Kisaran suhu terbaik untuk produksi wafer silikon adalah 35~45%.